SourcingAI
Try for free
Powered by Made-in-China.com
Personalización esputo Target Titanium OLED ITO 99,99% silicio electrónico de cobre Componentes

Personalización esputo Target Titanium OLED ITO 99,99% silicio electrónico de cobre Componentes

Guangdong, ChinaShenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd
Personalización esputo Target Titanium OLED ITO 99,99% silicio electrónico de cobre Componentes
US$ 10,00-15,00
1 Kg

Perfil del producto

Tipo

Meta de metal

Forma

Customed

Proceso de dar un título

Other

No. de Modelo.

Sputtering Targets

pureza

personalizado

tamaño

personalizado

transporte

por expreso, aire, mar

aplicación

conductor/semiconductor con revestimiento metálico

Paquete de Transporte

Wooden Box

Especificación

caja de madera

Marca Comercial

tecno-tec

Origen

Dongguan Guangdong

Código del HS

7419809100

Capacidad de Producción

50000

Perfil de la empresa

Shenzhen Hongchen New Materials Co., LtdGuangdong, China
Tipo de Negocio: Fabricante/Fábrica

Enviar Consulta

*A:Shenzhen Hongchen New Materials Co., Ltd
*Contenido:
0/4000

Las respuestas de los proveedores se enviarán a tu correo electrónico registrado

También te puede gustar

Objetivo de Sputtering de Cobre Puro 99.9%~99.9999% Tu2 Tu1 Metal Cu Cobre

Objetivo de Sputtering de Cobre Puro 99.9%~99.9999% Tu2 Tu1 Metal Cu Cobre

US$50.00-100.00
1 Pieza(MOQ)
99.999% Gránulos de Cobre Puro Alta Pureza Piezas de Cobre de Tamaño Irregular

99.999% Gránulos de Cobre Puro Alta Pureza Piezas de Cobre de Tamaño Irregular

US$15.00-50.00
1 Kg(MOQ)
Buena calidad de varias barras de aleación de cobre para aviación y piezas de automóviles

Buena calidad de varias barras de aleación de cobre para aviación y piezas de automóviles

US$15.00-160.00
30 Piezas(MOQ)
99.95% Placa de Cobre Puro de Oxígeno Libre T1 Tu1 Hoja de Cobre Puro Roja

99.95% Placa de Cobre Puro de Oxígeno Libre T1 Tu1 Hoja de Cobre Puro Roja

US$45.00-125.00
1 Pieza(MOQ)
Placa de Cobre de Alta Pureza Premium 99.95% T2 Tu2 para Necesidades Personalizadas

Placa de Cobre de Alta Pureza Premium 99.95% T2 Tu2 para Necesidades Personalizadas

US$45.00-125.00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

Objetivo de Silicio Monocristalino Mono-Si para Objetivo de Sputtering en Fotovoltaica Solar para Teléfonos Móviles

US$35.00-75.00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

Objetivo de pulverización de aleación de níquel y cromo de alta calidad para recubrimiento

US$35.00-40.00
1 Pieza(MOQ)
Blanco de rutenio para pulverización catódica magnetrónica, 99,95 % de alta pureza, certificado por ISO9001, tamaño personalizado, película delgada PVD para semiconductores

Blanco de rutenio para pulverización catódica magnetrónica, 99,95 % de alta pureza, certificado por ISO9001, tamaño personalizado, película delgada PVD para semiconductores

US$32,000.00
1 Pieza(MOQ)
Blanco de pulverización catódica redondo de titanio, placa de respaldo de cobre unida opcional, rendimiento de pulverización catódica estable, para recubrimiento de dispositivos médicos, proveedor con precios competitivos

Blanco de pulverización catódica redondo de titanio, placa de respaldo de cobre unida opcional, rendimiento de pulverización catódica estable, para recubrimiento de dispositivos médicos, proveedor con precios competitivos

US$1.00-99.00
10 Piezas(MOQ)
In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

In2O3+Cu Objetivo cerámico de óxido de indio + objetivo cerámico de cobre para LCD/panel táctil

US$40.00
1 Kg(MOQ)
Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

Objetivos de Sputtering de Aleación de Níquel de Alta Pureza Xinkang Níquel Vanadio Niv7%

US$35.00-40.00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

Objetivo de pulverización de CU/objetivo rotatorio de cobre para conductor/semiconductor recubierto de metal

US$10.00-15.00
1 Kg(MOQ)
SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película

SrRuO3 objetivo de estroncio Rutenato Cerámica esputante objetivo de delgado óptico Revestimiento de película

US$40.00
1 Kg(MOQ)
99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

99.95% Objetivo de Sputtering de Cromo Puro, Objetivo de Cromo de Alta Pureza para Recubrimiento PVD

US$30.00-1,000.00
1 Pieza(MOQ)
99.95% Puro In2o3: Sno2 Fabricante de Objetivos ITO de Sputtering con el Mejor Precio

99.95% Puro In2o3: Sno2 Fabricante de Objetivos ITO de Sputtering con el Mejor Precio

US$90.00-999.00
1 Pieza(MOQ)
3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

3mm Blanco grueso de rutenio, blanco de sputtering de Ru

Negociable
1 Pieza(MOQ)
Gr2 Blanco de pulverización catódica de placa de aleación de titanio con bajo contenido de oxígeno para recubrimientos industriales duros, fabricante de China

Gr2 Blanco de pulverización catódica de placa de aleación de titanio con bajo contenido de oxígeno para recubrimientos industriales duros, fabricante de China

US$22.20-33.30
10 Piezas(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

Objetivo de Sputtering de Rhenio de Alta Pureza 99.99%, Objetivo Redondo de Metal Re

US$1,000.00-4,000.00
1 Pieza(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Escandio Sc para películas semiconductoras de ScN, Sc2O3 dieléctricos y recubrimientos ópticos

Objetivo de Sputtering de Escandio Sc para películas semiconductoras de ScN, Sc2O3 dieléctricos y recubrimientos ópticos

US$80.00
1 Kg(MOQ)
Objetivo de Sputtering de Terbio Tb para películas magnetoópticas de TbFeCo, capas de difusión de NdFeB e investigación en espintrónica

Objetivo de Sputtering de Terbio Tb para películas magnetoópticas de TbFeCo, capas de difusión de NdFeB e investigación en espintrónica

US$80.00
1 Kg(MOQ)